光刻胶去除和晶片清洁系统

● 传统石英舟设计 

● 200mm以上的晶片处理能力

● 专利的刻蚀通道使工件损伤最小 

● Windows触摸屏界面

射频等离子体系统9200是一种筒式批量剥离清洁系统，它可用在去除光刻胶，氮化物刻蚀，或半导体和MEMS行业的其它清洁，并具有可选的高温工作功能。该系统基于过去20多年来已证实的反应器的设计发展而成，现在全世界有上百台这种设备应用在晶片处理中。 

特点： 

● 彩色触摸屏界面 

● 光学末端检测 

● 很少产生颗粒的反应中心 

● 内置数据记录系统 

● 自选远程工艺监测 

● 穿墙式安装有利于从后部对设备进行维护。