公司简介


50年代:

  • 在瑞士的巴尔采司公司设立真空冶金部,用于开发高质量的溅射靶材
  • 真空冶金设备制造,真空业务向其他领域渗透

70年代:

  • 将真空冶金部分搬到德国Arthur Pfeiffer Vakuumtechnik GmbH 公司(Wetzlar, GER)
  • 在普发公司进一步扩展真空冶金业务

 

1991:

  • 管理层买出,成立PVA-PFEIFFER Vakuum- Anlagenbau GmbH (以后改为
    PVA Vakuum-Anlagenbau GmbH)

1998:

  • 从 Jenoptik公司购买UV SYSTEC Gesellschaft für UV-Strahler 和
    Systemtechnik GmbH

1999:

  • 在耶拿成立 PVA Vakuum-Anlagenbau Jena GmbH
  • Tepla公司在法兰克福股票市场上市
  • 成为 Crystal Growing Systems GmbH, Hanau公司的主要股东
  • 成为 Vakuumanlagen Service GmbH, Hanau公司的主要股东

2000:

  • 成立真空钎焊和热处理服务中心
  • 成立PVA USA Corp. in NH/USA美国子公司

2002:

  • 成为PVA MIMtech LLC,Cedar Grove, N. J., USA公司的股东
  • 05.11.02: 和 TePla AG 公司合并,成立 PVA TePla AG

2004:

  • 收购丹麦Flotatzone公司,成立PVA TePla 悬浮区熔设备公司
  • 在北京成立德国普发拓普北京代表处
  • 在西安成立西安华德晶体设备有限公司

PVA TePla 产品应用领域:

开发生产用于高端材料生产和处理所需的设备,主要领域有:

- 能源技术
  核燃料,太阳能元件,涡轮发动机,原子核物理学

- 电子
  开关,变送器,X-光管,灯,电容器

- 微电子和通讯行业
  电子和光学行业的晶体

- 航空,铁路和汽车工业
  发动机, 燃料, 陶瓷摩擦片等

- 硬质合金 – 工具行业

真空钎焊和热处理中心:为用户提供真空钎焊和扩散焊工艺服务


市场领先者:

  • 是世界上用于材料处理用的高温真空炉或等离子体设备的最大制造商之一
  • 是世界上硬质合金烧结炉的市场和技术领先者
  • 是用于芯片技术的单晶硅生长炉和用于光刻技术的氟化物晶体生长炉的世界第一供应商
  • 是表面处理等离子体系统的世界市场领先者
  • 是半导体前端处理技术中等离子体除胶系统的世界市场领先者
copyright(c)德国普发拓普公司 2005. All rights reserved.